第323章 臥槽老板,这你也会?
  “问题大概出在这里。”
  赵阳指著屏幕上两条几乎重叠但存在微小相位差的曲线。
  “机械对准和光学对准必须联动校准。如果先机械后光学,光学对准会把机械对准的残余误差放大,因为光学系统在扫描的时候会重新採样,这个时候机械对准留下的那一丁点偏差会被当成正常信號。”
  几个工程师互相看了一眼。梁孟松站在旁边没说话,但眉头微微皱著。
  “联动校准怎么做?我们试过几轮,两个系统同步跑的时候数据抖得厉害。”
  一个年纪稍大的工程师迟疑著开口问道。
  赵阳开始一段一段讲。从工件台的运动学模型讲到光学对准的採样频率,从补偿算法的时间延迟讲到传感器信號的处理方式。
  他没有泛泛而谈,而是按照自己脑子里关於光刻机系统架构的经验,把每一步都分解得很具体。讲到后面他拉过一块白板,用马克笔在上面画了张流程图,標註了几个关键参数应该调整的数值。
  “光源均匀性的问题不用调设备。”
  赵阳把马克笔放下,“应该是曝光剂量补偿文件的参数设置有问题。你们查一下镜头热效应补偿係数,大概率是默认值没有改。边缘剂量偏低是因为镜头组在长时间连续曝光下会產生轻微的热膨胀,补偿係数不对就会导致边缘对焦偏移。”
  那个年纪稍大的工程师盯著白板上的参数值看了好一会儿,然后转头看了梁孟松一眼。梁孟松朝他点了点头,几个人立刻散开去重新跑参数了。
  接下来三天,赵阳几乎都待在工厂里。光刻机的问题解决之后,他又陆续帮產线调了刻蚀均匀性的参数波动、cmp的终点检测偏差、离子注入的角度误差。
  每一个问题他都是现场看数据、现场给方案,没有哪一次是坐下来慢慢推敲之后再回来改的。工程师们一开始还觉得这位学术明星可能只是在宏观层面给点建议,但几次调试下来,所有人都意识到他不是在建议,他是在直接告诉他们问题在哪里、怎么改、改了之后会怎么样。
  “这个离子注入的角度为什么设七度?改成三度试一下。”
  赵阳在离子注入机前面站了两分钟,看了一遍工艺参数表格,然后转头跟旁边的工艺工程师说。